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技术瓶颈待破解(克服技术瓶颈)

euv光刻机瓶颈待破,下一代技术怎么走

1、对于这款新光刻机的看法,可以从以下几个方面进行分析:首先,这款新光刻机的推出将有助于满足下一代2nm制程工艺的需求。随着科技的发展,芯片制程工艺也在不断进步,现有的EUV光刻机已经不能满足未来的需求。

2、没有euv光刻机,也造不了3nm,国产芯片可以利用先进封装技术来提升芯片性能和降低成本。没有EUV光刻机,并不意味着中国的芯片企业就无法实现3nm制程。

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